真空產品生產廠家、真空行業的科技工作者每時每刻都應該掌握自己工作領域內最近、新的學術動態，研究自己工作范圍內的前沿課題，以便給自己定位，確定自己的對策，找出自己前進的方向，積極參加市場競爭，不斷改革創新，才能立于不敗之地。尤其是我國加入WTO之后，真空科技工作者的目光應該更遠大，獲取科技信息就顯得更為重要，它是企業存在的保障，是科技工作者的生命線。

1、真空泵

真空泵的種類很多，可按下表進行分類。

真空泵的前沿課題主要有：①號稱21世紀綠色真空泵的各種無油泵（干泵）的研制；②噴射泵、擴散泵的理論研究與設計計算；③探索創新泵的工作原理，研制新型泵。

2、真空計量

　　真空計量目前研究的主要內容有：

　　①真空度(全壓力)測量與校準；

　　②真空質譜分析，分壓力的測量與校準；

　　③氣體微流量(漏率)的測量與校準；

　　④材料放氣率的測量；

　　⑤真空泵抽速測量。

真空計量研究的前沿課題可歸納為：

　　①研究非平衡態分子流理論，非平衡態分子流校準系統，超音速分子流校準系統，為空間真空測量和校準解決難題；

　　②研究微小漏氣率測量、校準技術；

　　③研究解決極高真空的測量、校準問題，尋找新的測量理論；

　　④研究材料微量放氣率測量與放氣成分分析技術

　　⑤研究解決擴散泵返油率的測量問題，尋找新的測量方法。

3、真空鍍膜

　　真空鍍膜是真空科學技術領域中最活躍的一門應用技術，它涉及到鍍膜設備、工藝、膜材、靶材等諸多方面，薄膜的種類很多，這里只能簡單論述其中的一部分。

3.1、硬質薄膜

　　自然界中金剛石最硬，立方氮化硼第二，碳化硼第三。

　　①金剛石膜(CVD法生產): 熱絲CVD法金剛石膜沉積速率可達 2.5μm/h，HV40~50GPa；

　　②B4C 碳化硼：用磁控濺射法生產，高溫熱穩定性好，1100℃以上，它是最硬材料，HV50.4gPa；

　　③復合膜：TiN-第1代；TiCN、TiAlN--第二代; 第三代是多組元復合膜和多層膜體系;TiN/TiCN、TiN/NbN、TiN/TiAlN、TiN/CrN、TaN/NbN(氮化鉭/氮化鈮)，HV55.6GPa，發展成多層納米梯度膜- TiAl、TiAl1、TiAl2、ZrN(氮化鋯)。發展方向：提高膜的韌性、耐磨性、耐熱性、耐蝕性。

3.2、金剛石涂層刀具

研究方向：①提高金剛石涂層與基體之間附著力，設計中間過渡層，開發多涂層刀具; ②增大沉積面積，提高生長速率; ③研究PVD法金剛石涂層理論和工藝。

3.3、光、電、 磁各種功能膜

　　這些功能膜種類繁多，性能各異，這里僅舉部分例證。

　　①發光薄膜：Y2O3:Eu(尿素D溶液法)Eu(射頻濺射法);

　　②冷光膜- 可見光區高反射，紅外光區高透射，實現冷光照射，達到保護被照物目的;

　　③有機光電薄膜：金屬酞菁膜：CuPc-PbPc;CuPc/ZnS; 酞菁氧鈦具有極高光敏系數;

　　④光電功能復合膜- Ag-Au-SiO2，Ag-BaO，Ag-SiO2,Ag-MgF2，其中Ag-MgF2納米金屬陶瓷薄膜具有光吸收特性，Ag-BaO具有光電發射特性；

　　⑤透明導電膜：ITO(In2O3:Sn),ZAO(ZnO:Al)，IMO(In2O3:Mo);

　　⑥光致變色薄膜：18烷基取代螺吡喃薄膜(SP-18),在紫外光照下變色，在可見光照下恢復無色，可用于光信息存儲、光控開關等；

　　⑦磁光記錄薄膜：PbFeCo(鉛鐵鈷);

　　⑧超大規模集成電路(VLSI)： 在Si基片上濺射Cu或Al，實現多層布線;

　　⑨半導體膜：SiC、ZnO；

　　⑩其它光電磁等特性功能膜：

　　LiF、CaF2用于平面型場發射顯示器;

　　Fe/Cr多層膜有巨磁電阻(GMR) ;

　　Fe=SiO2膜具有隧道磁電阻效應(TMR);

　　TiO2膜具有優良的介電、壓電、氣敏和光催化功能;

　　Cu-SCN-Al(有機絡和物)有極性記憶效應;

　　三乙胺- 四氰-P-醌二甲烷(TEA(TCNQ)2)單晶是一種可以用來進行高密度信息存儲的有機復合材料;

YBCO屬高溫超導(HTS)膜。 

3.4、裝飾膜

 　　研究方向：①對薄膜材料的研究正向復合化、 多種類、高性能、新工藝方向發展②研究復合膜的設計、性能檢測、制備方法; ③研究薄膜應力( 牢固度) ;④研究大面積靶材制作技術，提高靶材利用率。

3.5、前沿課題

　　①發現具有新特性的新的膜層材料;

　　②設計具有特殊功能的新的膜系(復合膜);

　　③發展高科技產業，例如集成電路產業，信息存儲產業，平面顯示器產業，包括液晶顯示器(LCD)，等離子體顯示器(PDP)， 場致發射顯示器(EL)；

　　④深入膜層結構與特性關系等理論研究。